SK하이닉스, 中공장 EUV 도입 美 반대에 차질?…“아직 논할 단계 아냐”

로이터통신 “美, 첨단 반도체 장비 中 반입 허용 안할 것”

SK하이닉스 “국내도 초기단계…중국 공장은 시기상조”

SK하이닉스 이천캠퍼스 M16 전경.ⓒSK하이닉스

SK하이닉스가 미·중 무역갈등 여파로 중국 우시 공장 첨단화 계획에 차질이 생길 수 있다는 한 외신의 분석과 관련해 장비 도입을 논하기에는 시기상조라며 강하게 부인했다.

18일 주요 외신에 따르면 로이터통신은 이날 미국 정부가 중국의 군비 강화를 견제하기 위해 극자외선(EUV) 노광 장비 등 첨단 반도체 장비의 중국 반입을 허용하지 않을 것으로 전망된다고 보도했다.

미국은 중국의 군사력 증대에 악용될 수 있다며 이러한 첨단장비의 중국 반입을 막아왔다. 한 당국자도 로이터 통신에 조 바이든 미 행정부가 중국군 현대화에 쓰일 수 있는 최첨단 반도체 개발에 미국과 동맹국의 기술을 활용하는 것을 막는다는 입장에서 변함이 없다고 말했다.

다만 해당 당국자는 SK하이닉스의 EUV 장비 중국 반입을 허용할 것인지 묻는 말에 언급을 거부했다.

현재 SK하이닉스는 우시 공장에서 D램을 생산하며, 파운드리(위탁생산) 자회사 SK하이닉스시스템IC도 우시에서 설비를 운영 중이다. 세계 시장점유율에서도 15%에 달하는 양이다.

SK하이닉스는 EUV 도입 자체가 시기상조인 만큼 첨단화와 관련해 논하는 것은 아직 이르다며 이같은 분석을 일축했다.

SK하이닉스 관계자는 “EUV 장비 도입은 아직 국내에서도 초기 단계”라며 “중국 공장 도입까지는 아직 많은 시간이 남아 있다”고 말했다.

이어 “공장에도 언젠가는 EUV 장비를 도입하겠지만 국내 도입이 먼저”라며 “현재로서는 장비 도입 문제를 논하기는 매우 이르다”고 덧붙였다.

한편 EUV 기술은 반도체 웨이퍼 원판에 빛을 쪼여 회로 패턴을 그리는 포토(노광)공정에서 활용되는데 극자외선 파장의 광원을 사용한다. 기존 액침불화아르곤(ArF)의 광원보다 파장의 길이가 짧아(10분의 1 미만) 반도체에 미세 회로 패턴을 구현하는데 유리하고 성능과 생산성도 높일 수 있다는 장점이 있다.

이 때문에 글로벌 주요 반도체 업체들은 미세 공정 경쟁에서 우위를 다지기 위해 EUV 확보에 상당한 공을 들이고 있다.