삼성전자, 3Q 시설투자 12조7천억…반도체에 11조5천억

3분기 누적 33조 집행...반도체에 29조1천억

삼성전자 평택캠퍼스 전경. ⓒ삼성전자

삼성전자가 3분기 시설투자에 12조7000억원을 집행한 것으로 나타났다. 반도체(DS)에 90% 이상 집중됐다.

27일 삼성전자에 따르면 3분기 시설투자 규모는 12조7000억원으로 사업별로는 반도체에 11조5000억원, 디스플레이에 5000억원 수준이다.

3분기 누계로는 총 33조원이 집행됐는데 반도체가 29조1000억원, 디스플레이가 2조1000억원 수준으로 나타났다.

사업별로 보면 메모리의 경우, 평택 3, 4기 인프라와 중장기 시장경쟁력 강화를 위한 EUV(Extreme Ultra-Violet, 극자외선) 등 첨단 기술 중심 투자가 예상된다.

파운드리는 '쉘 퍼스트(Shell First)' 전략으로 수요에 신속하고 탄력적으로 대응한다는 방침 하에 EUV 첨단 공정 수요 대응을 위한 미국 테일러·평택 생산능력 확대를 중심으로 투자가 집행될 예정이다.

'쉘 퍼스트'는 클린룸을 선제적으로 건설하고, 향후 시장 수요와 연계한 탄력적인 설비 투자로 안정적인 생산 능력을 확보해 고객 수요에 적극 대응한다는 의미다.

디스플레이는 중소형 플렉시블 생산능력 확대와 대형 QD-OLED 생산 효율성 제고에 투자가 집중될 계획이다.

한편 올해 연간 시설투자는 약 54조원 수준으로 예상되며 이중 DS 47조7000억원, 디스플레이 3조원 수준이다.