이재용 부회장, 새해 첫 행보 화성 반도체연구소 “역사는 만들어가는 것”

DS부문 사장단과 차세대 반도체 전략 논의

DS부문 사장단과 차세대 반도체 전략 논의

이재용 삼성전자 부회장이 2일 경기도 화성사업장 내에 있는 반도체연구소를 찾아 직원들과 웃으며 악수하고 있다.Ⓒ삼성전자

이재용 삼성전자 부회장이 반도체 개발현장 방문으로 새해 첫 업무를 시작했다. 이 부회장은 임직원들에게 “역사는 만들어가는 것”이라며 새로운 미래 개척을 당부했다.

2일 삼성전자에 따르면 이 부회장은 이날 경기 화성시에 위치한 사업장 내에 있는 반도체연구소를 찾았다. 그는 세계 최초로 개발한 ‘3나노 공정기술’ 내용을 보고 받고 디바이스솔루션(DS)부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의하고 이같이 말했다.

이 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한 번 임직원과 공유하며 목표달성 의지를 다진 것으로 분석된다.

반도체 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술인 ‘GAA(Gate-All-Around)’를 적용한 3나노 반도체는 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품에 비해 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있다. 소비전력을 50% 감소시키면서 성능(처리속도)은 약 30% 향상시킬 수 있는 제품으로 평가된다.

이 부회장은 “과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다”며 “잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자”고 말했다.

이어 “우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자”고 강조했다.