ASML의 최첨단 EUV 노광장비, 첫 행선지는 인텔

2나노 이하 초미세공정 핵심 '하이 NA EUV' 출하 시작

글로벌 반도체 장비 업체 네달란드 ASML 본사의 로고. ⓒ AP/뉴시스

반도체 업계 '슈퍼 을(乙)'로 불리는 네덜란드 반도체 장비업체 ASML이 생산한 최첨단 하이 NA EUV 노광장비 첫 제품이 인텔에 공급됐다.

22일 블룸버그통신 등 외신에 따르면,ASML은 이날 하이 NA EUV 노광장비를 미국 오리건주에 있는 인텔의 D1X 공장으로 출하했다. 인텔은 이번 첫 장비를 비롯해 총 6대를 확보한 것으로 알려졌다.

하이 NA EUV 장비는 첨단 초미세공정인 2나노 미만 공정의 핵심 필수장비로 ASML이 독점 생산하고 있다. 인텔은 해당 장비를 확보해 2024년 2나노를, 2025년에는 1.8나노를 선보이겠다는 계획이다.

현재 삼성전자와 SK하이닉스, 대만의 TSMC 등은 ASML의 첨단 장비를 공급받기 위해 대기중인 상황이다. 현 추세대로라면 삼성전자는 2025년쯤 해당 장비를 확보하게 될 전망이다.

앞서 삼성전자는 지난 15일 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈방문을 계기로 ASML과 내년부터 1조원을 투입해 한국 수도권에 차세대 반도체 기술을 연구하는 센터 설립 내용의 양해각서(MOU)를 맺었다.

한편, 트윈스캔 EXE:5200으로 불리는 ASML의 이번 노광장비 첫 번째 모델 가격은 약 2억7500만 달러(약 3580억원)일 것으로 업계에서는 추정하고 있다.